02专项-【硬核科普】真·国产之光，什么是国家“02专项”

热门回复：

• 尚繁宇:自主14纳米放在除了中美以外任何国家能被吹上天，在中国，只能挨骂。
• 艾小蛮:02专项其中一环从业者淡定飘过
• 夜冥昼梦:对up的钻研精神必须给予好评，看了这么多半导体产业相关的视频，几乎全是跟风说光刻机的，搞得一大帮小白觉得有了光刻机就解决一切似的。难得见到一个能把02专项搬出来，对整个半导体设备材料产业链进行介绍的，冲这个就得三连。 不过我猜up之前也是不太了解，里面还是有点问题的。 半导体设备主要是七大类: 氧化炉，光刻机，刻蚀机，沉积设备，抛光机，清洗设备，检测设备。 而半导体材料主要有:大硅片，光刻胶，光罩，靶材，抛光液，湿化学品，电子特气 国内还有一家非常重要的半导体设备厂商:电科装备。 另外晶方科技这个做封测的混在设备材料商里有点不搭，长电科技，华天科技，富通微电均表示关切。 另外推荐一个个人认为很有价值的访谈，关于半导体设备 BV1ci4y187VF
• 人老心嫩不成熟:没想到能在B站上看到介绍02专项的视频，感谢UP主。因为处于行业内，看到UP的介绍不由得百感交集。差距仍然非常巨大，通过02专项验收不代表产业化成功，之间的巨大鸿沟，仍需全产业抛弃急功近利的思想，共同拼搏。从装备到材料，希望我国出现越来越多真正掌握第一原理且能绕过国外专利壁垒的原创企业。我辈加油！
• ERLING16:个人看法，光刻机命名方式不一定就要像国外一样用光源波长来命名，个人认为也可以用生产多少纳米制程芯片来命名。国外光刻机是已经开发出来，知道光源波长后，用波长来命名没问题。但是国内情况不同，“28纳米节点浸没式分步重复投影光刻机研发成功并实现产业化”项目，目标就是要开发出能进行28纳米芯片制程生产的光刻机，用什么波长的光源完全是次要的。用“28纳米光刻机”来宣传个人反而觉得更好，非常直观的看出国内设备和国外最先进的设备差距，也可以很好的反应国内设备进步的速度，比光源波长这些好宣传。